Vào ngày 4 tháng 6, theo các phương tiện truyền thông đưa tin, Trung tâm Nghiên cứu Vi điện tử Bỉ (IMEC) và ASML đã công bố thành lập Phòng thí nghiệm in thạch bản EUV NA cao ở Veldhoven, Hà Lan.
Sau nhiều năm xây dựng và tích hợp cẩn thận, phòng thí nghiệm này hiện đã được chuẩn bị đầy đủ và sẽ cung cấp hỗ trợ kỹ thuật tiên tiến cho các nhà sản xuất chip lưu trữ và logic hàng đầu toàn cầu cũng như các nhà cung cấp vật liệu và thiết bị tiên tiến.
Thiết bị cốt lõi trong phòng thí nghiệm là máy quét EUV khẩu độ số cao nguyên mẫu (TWINSCAN EXE: 5000), cùng với các công cụ xử lý và đo lường đi kèm, sẽ cùng góp phần tạo ra những đột phá trong sản xuất chip trong tương lai.
Việc khai trương phòng thí nghiệm chung này được xem là cột mốc quan trọng trong quá trình chuẩn bị cho việc sản xuất hàng loạt công nghệ EUV hàm lượng NA cao. Ngành công nghiệp hy vọng rằng với sự trưởng thành và phổ biến liên tục của công nghệ này, nó sẽ mở ra các ứng dụng sản xuất hàng loạt quy mô lớn từ năm 2025 đến năm 2026.
Điều đáng nói là Asma trước đây đã công khai giới thiệu thế hệ máy in thạch bản High NA EUV mới nhất. Chiếc máy in thạch bản này có khối lượng khổng lồ, tương đương với một chiếc xe buýt hai tầng và nặng tới 150 tấn.
Do kích thước khổng lồ và quy trình lắp ráp phức tạp nên thiết bị cần được đóng gói phụ trong 250 chiếc mì dẹt riêng biệt để vận chuyển, điều này cho thấy những thách thức to lớn của nó trong quá trình sản xuất và vận chuyển.
Mặc dù chi phí sản xuất máy in thạch bản High NA EUV cao, được cho là có giá 350 triệu euro (khoảng 2,7 tỷ nhân dân tệ), nhưng giá trị của nó trong lĩnh vực sản xuất chất bán dẫn là vô cùng lớn. Nó sẽ trở thành vũ khí thiết yếu để ba nhà sản xuất tấm wafer lớn trên thế giới đạt được sản xuất quy mô lớn các quy trình tiên tiến dưới 2nm.