Công nghệ phủ phẳng là sử dụng các ion để đạt được sự xuất hiện của vật liệu mục tiêu và các nguyên tử được tạo ra bằng cách tạo ra chất đống trên bề mặt chất nền để tạo thành lớp phủ PVD. Thông thường, ion hóa khí xảy ra do phóng điện và các ion dương của nó dưới tác dụng của điện trường tấn công mục tiêu catốt ở tốc độ cao, đánh ra các nguyên tử hoặc phân tử của mục tiêu catốt, sau đó bay đến bên ngoài của chất nền được mạ để tích lũy vào lớp phủ PVD. Công nghệ lớp phủ của Magnetron được phát triển trên cơ sở lớp phủ, so với lớp phủ, tốc độ tích lũy nhanh hơn, lớp phủ dày đặc và có độ bám dính tốt với chất nền, phù hợp để sản xuất hàng loạt lớp phủ PVD.
1.
Công nghệ lớp phủ phóng xạ từ tính truyền thống, là một nam châm vĩnh cửu hoặc cuộn dây điện từ được đặt phía sau vật liệu đích, vật liệu đích sẽ tạo thành một từ trường vuông góc với hướng của điện trường. Hiệu ứng áp suất cao của ion hóa argon thành huyết tương, các ion AR + được tăng tốc bằng mục tiêu cực âm tách cực, mục tiêu được phun ra và các electron trong góc vuông Argon trong khí thấp có thể được duy trì trong quá trình phóng điện, và do đó, phép thuật Magnetron không chỉ làm giảm áp suất khí, mà còn cải thiện công suất phun. Do đó, phép thuật Magnetron không chỉ làm giảm áp suất khí, mà còn cải thiện sức mạnh và tốc độ xếp chồng.
Tuy nhiên, việc phun từ tính truyền thống có một số nhược điểm, ví dụ: xả điện áp suất thấp của các electron và chọc ra các electron thứ cấp mục tiêu được liên kết trong bề mặt mục tiêu gần vùng khoảng 60mm, do đó, phôi chỉ có thể được đặt trong mục tiêu bên ngoài phạm vi 50 ~ 100mm. Một khu vực phủ nhỏ như vậy hạn chế quy mô của phôi được mạ, và các phôi lớn hơn không phù hợp với các phương pháp truyền thống.
2. Nhập trí từ tính không cân bằng
Phương pháp lớp phủ của Magnetron này để giải quyết một phần các khiếm khuyết của việc phun từ tính cân bằng, là bề mặt mục tiêu của plasma dẫn đến mục tiêu ở phía trước phạm vi 200 ~ 300mm, do đó, chất nền cực dương được ngâm trong plasma, làm giảm độ giữa của các hạt. Tuy nhiên, một mục tiêu từ tính không cân bằng riêng biệt trên đế rất khó để xây dựng một lớp màng mỏng đồng đều, và do đó, sự xuất hiện của công nghệ sơn tốc độ không cân bằng đa mục tiêu để bù đắp cho các khiếm khuyết của đường phun từ tính không cân bằng mục tiêu.
3. Đảo ngược tốc độ từ
Với sự phát triển của công nghệ kỹ thuật ngoại hình, ngày càng nhiều việc sử dụng nhiều loại vật liệu màng mỏng hỗn hợp. Các vật liệu hợp chất có thể được sử dụng trực tiếp để tạo ra vật liệu mục tiêu thông qua các đường phun để chuẩn bị các màng ghép, nhưng cũng trong việc phun các mục tiêu kim loại hoặc hợp kim, việc giới thiệu các khí phản ứng vào buồng chân không, thông qua phản ứng hóa học để chuẩn bị màng ghép, phương pháp này được gọi là đường cong từ. Nói chung, kim loại tinh khiết là vật liệu đích và độ đảo ngược khí dễ dàng hơn để có được màng hợp chất chất lượng cao, vì vậy hầu hết các màng ghép được điều chế bằng cách làm đảo ngược các đường phun từ kim loại tinh khiết làm vật liệu đích.
4. Xuất tần số tần số trung gian
Phương pháp lớp phủ này là thay đổi nguồn cung cấp năng lượng phóng xạ từ tính từ DC truyền thống sang nguồn điện AC tần số trung bình. Trong quá trình phóng xạ, khi điện áp hệ thống trong nửa chu kỳ âm của dòng điện xen kẽ, vật liệu đích là các ion dương và phóng xạ, trong khi trong nửa chu kỳ dương, vật liệu đích xuất hiện bằng plasma trong vỏ điện tử và phun, cùng một lúc, sự xuất hiện của vật liệu tích lũy. Tần số tần số tần số tần số tần số thường nằm giữa 10-80 kHz, tần số cao, các ion dương được tăng tốc theo một khoảng thời gian ngắn, năng lượng của mục tiêu thấp, tốc độ tích lũy cường độ giảm. Hệ thống gò từ từ tần số trung bình thường có hai mục tiêu, hai mục tiêu định kỳ xoay dưới dạng cực âm và cực dương, một mặt, làm giảm tốc độ phun nền; Mặt khác, cũng làm suy yếu hiện tượng hồ quang.
Các ở trên giới thiệu rộng rãi các phương pháp đại diện của lớp phủ phóng xạ từ tính, có thể thấy rằng các kỹ năng phủ phẳng từ tính sau một thời gian dài, có nguồn gốc từ nhiều nhánh, cấu thành các đặc điểm khác nhau, và do đó được sử dụng rộng rãi hơn, việc chuẩn bị hiệu suất lớp phủ PVD là tốt hơn. Nếu bạn cần các dịch vụ liên quan hoặc muốn biết thêm, hãy chào đón liên hệ với chúng tôi để có được nội dung bạn cần.